zycgr210713032022年5至12月政府意向-干法刻蚀设备和薄膜沉积设备招标预告
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zycgr210713032022年5至12月政府意向-干法刻蚀设备和薄膜沉积设备招标预告
| 干法刻蚀设备和薄膜沉积设备 | |
| (略) 在采购意向： | zycgr 点击查看>> 年5至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr 点击查看>> |
| 采购项目名称： | 干法刻蚀设备和薄膜沉积设备 |
| 预算金额： | 点击查看>> 00万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 其他电气设备 |
| 采购需求概况： | 全自动量产型干法刻蚀设备（1套）将用于基于12英寸大晶圆的硅光工艺加工，通过利用电感耦合等离子体源创建高密度等离子体来实现硅、氮化硅高效精准的干法刻蚀。符合项目需求的干法刻蚀设备需要提供上千瓦的源功率（source power）和射频功率（RF power）， (略) 需要达到极高的真空度，用以实现具有高各向异性的硅波导刻蚀，刻蚀侧壁垂直度达到85度以上，侧壁粗糙度小于4nm。12英寸全自动量产型薄膜沉积设备（1套），通过利用微波产生的等离子体增强的化学气相沉积方法（PECVD）来实现二氧化硅和氮化硅的薄膜沉积，设备需提供上千瓦的微波功率用于激发等离子，在具有极高真空度的工艺腔体内，实现基于12寸晶圆的薄膜沉积工艺，并严格控制整个晶圆上成膜厚度的均匀性。 |
| 预计采购时间： | 2022-06 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 干法刻蚀设备和薄膜沉积设备 | |
| (略) 在采购意向： | zycgr 点击查看>> 年5至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr 点击查看>> |
| 采购项目名称： | 干法刻蚀设备和薄膜沉积设备 |
| 预算金额： | 点击查看>> 00万元(人民币) |
| 采购品目： | A 点击查看>> 其他电气设备 |
| 采购需求概况： | 全自动量产型干法刻蚀设备（1套）将用于基于12英寸大晶圆的硅光工艺加工，通过利用电感耦合等离子体源创建高密度等离子体来实现硅、氮化硅高效精准的干法刻蚀。符合项目需求的干法刻蚀设备需要提供上千瓦的源功率（source power）和射频功率（RF power）， (略) 需要达到极高的真空度，用以实现具有高各向异性的硅波导刻蚀，刻蚀侧壁垂直度达到85度以上，侧壁粗糙度小于4nm。12英寸全自动量产型薄膜沉积设备（1套），通过利用微波产生的等离子体增强的化学气相沉积方法（PECVD）来实现二氧化硅和氮化硅的薄膜沉积，设备需提供上千瓦的微波功率用于激发等离子，在具有极高真空度的工艺腔体内，实现基于12寸晶圆的薄膜沉积工艺，并严格控制整个晶圆上成膜厚度的均匀性。 |
| 预计采购时间： | 2022-06 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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