达到实验需求。(薄膜沉积在正文或附件中)

真空电子束蒸发薄膜沉积系统1台套具体要求详见采购文件。(薄膜沉积在正文或附件中)

用于实现高质量的氧化物、氮化物及多元金属/化合物薄膜的制备工艺腔极限真空满足低于5E-8Torr基片...(薄膜沉积在正文或附件中)

薄膜沉积设备（PECVD）是一种化学气相沉积设备采用等离子体处理的方式将反应性气体激活经过化学反应沉...(薄膜沉积在正文或附件中)

用于高端光学系统测试关键技术研究及仪器研制项目中光学元件的镀膜加工通过表面镀膜改善元件的光学性能减少...(薄膜沉积在正文或附件中)

主要用来实现晶圆有机无机半自动清洗工艺可进行晶圆的有机无机物的彻底清除解决在薄膜沉积工艺中由于有机无...(薄膜沉积在正文或附件中)

用于采购用于薄膜沉积设备的超高纯靶材以及真空零部件耗材包括钴铁硼靶材氧化镁靶材Irmn靶材等。(薄膜沉积在正文或附件中)

1.采购标的名称：高真空电子束蒸发薄膜沉积系统2.采购标的数量：1套3.采购标的需实现的主要功能或者...(薄膜沉积在正文或附件中)

(薄膜沉积在正文或附件中)

样品最高加热温度高于800度样品台射频偏压清洗含两个射频源数量。(薄膜沉积在正文或附件中)

(薄膜沉积在正文或附件中)

采购需求概况应当包括：1.采购标的名称：原子层沉积(薄膜沉积在正文或附件中)

拟采购用于多元复杂薄膜沉积模块的关键设备零部件一批设备零部件包含真空泵组定制真空腔体真空密封件真空计...(薄膜沉积在正文或附件中)

采购数量1该设备主要用于和现有分子束外延系统集成在SiGe材料上原位氧化或生长氧化物介电材料实现高质...(薄膜沉积在正文或附件中)

薄膜尺寸：XY:100(薄膜沉积在正文或附件中)

薄膜尺寸：XY:100(薄膜沉积在正文或附件中)

科研(薄膜沉积在正文或附件中)

该设备需配备加热装置和膜厚测量装置并可实现基片进样抽真空预溅射工艺溅射溅射完成后基片取样传递至进样室...(薄膜沉积在正文或附件中)

1.主要功能该设备用于硅通孔的侧壁镀膜连通使芯片的上下表面通过硅通孔进行导通能可以提高控制读取线的线...(薄膜沉积在正文或附件中)

科研(薄膜沉积在正文或附件中)

本设备用于沉积高精度掩膜200(薄膜沉积在正文或附件中)

薄膜沉积设备是一种应用广泛的薄膜沉积技术属于化学气相沉积中的一种是指采用等离子体处理的方式将反应性气...(薄膜沉积在正文或附件中)

薄膜沉积设备是一种应用广泛的薄膜沉积技术属于化学气相沉积中的一种是指采用等离子体处理的方式将反应性气...(薄膜沉积在正文或附件中)

1、兼容12寸及以下晶圆的薄膜沉积；2、具备2个工艺腔体分别用于沉积介质薄膜和金属薄膜(TiN薄膜的...(薄膜沉积在正文或附件中)

新采购1台12英寸晶圆级等离子体增强化学气相沉积设备适用12英寸晶圆中以硅、碳、氮/氧为主体的薄膜沉...(薄膜沉积在正文或附件中)

1.玻璃通孔（TGV）的盲孔Cu电镀填充；2.玻璃通孔（TGV）的通孔Cu电镀填充。(薄膜沉积在正文或附件中)

1.尺寸：8英寸兼容6英寸；2、实现先进集成TSV/BUMP电化学薄膜沉积金属工艺；3、电化学薄膜沉...(薄膜沉积在正文或附件中)

三氧化二铝、氧化铪、氮化钛、铪哠氧、铪镧氧等薄膜沉积；厚度均匀性小于3%；兼容8英寸；防止交叉污染分...(薄膜沉积在正文或附件中)

拟采购两台总预算金额2700万元。离子束溅射制备比例可调的混合氧化物薄膜；镀膜光学元件最大直径不小于...(薄膜沉积在正文或附件中)

量子级联激光器的波长覆盖3-12微米要形成大功率需要镀不同的腔面薄膜材料。该波段缺少相应的低吸收、绝...(薄膜沉积在正文或附件中)