六英寸双面光刻机招标预告

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六英寸双面光刻机招标预告


六英寸双面光刻机
(略) 在采购意向： (略) 2022年5至6月政府采购意向
采购单位： (略)
采购项目名称：六英寸双面光刻机
预算金额： 点击查看>> 00万元(人民币)
采购品目：
A 点击查看>> 电子工业专用生产设备
采购需求概况：
六英寸双面光刻机1台，主要于4英寸和6英寸晶圆的微米级双面光刻，包括正面、反面掩膜对准功能和接近、接触、真空、硬接触等不同模式的曝光功能，可手动对准和自动对准。主要技术指标包括：光强均匀性≤±3%、最高曝光分辨率≤1μm、正面套刻精度≤0.5μm、背面套刻精度≤1μm。
预计采购时间：2022-06
备注：


六英寸双面光刻机
(略) 在采购意向： (略) 2022年5至6月政府采购意向
采购单位： (略)
采购项目名称：六英寸双面光刻机
预算金额： 点击查看>> 00万元(人民币)
采购品目：
A 点击查看>> 电子工业专用生产设备
采购需求概况：
六英寸双面光刻机1台，主要于4英寸和6英寸晶圆的微米级双面光刻，包括正面、反面掩膜对准功能和接近、接触、真空、硬接触等不同模式的曝光功能，可手动对准和自动对准。主要技术指标包括：光强均匀性≤±3%、最高曝光分辨率≤1μm、正面套刻精度≤0.5μm、背面套刻精度≤1μm。
预计采购时间：2022-06
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