zycgr210708012022年9月政府意向-超高真空磁控溅射系统-招标预告
zycgr210708012022年9月政府意向-超高真空磁控溅射系统-招标预告
超高真空磁控溅射系统 | |
项目所在采购意向: | zycgr*年9月政府采购意向 |
采购单位: | zycgr* |
采购项目名称: | 超高真空磁控溅射系统 |
预算金额: | 239.*万元(人民币) |
采购品目: | A*其他专用仪器仪表 |
采购需求概况: | 1、超高真空磁控溅射系统可以在超高真空环境下制备高质量的超导薄膜(铝Al、铌Nb、铌钛NbTi、铌钛氮NbTiN等)以及常见的氧化物薄膜(氧化硅SiO2等)。2、采购数量:1台。3、超高真空反应腔体材质304不锈钢,极限真空不超过8×10-8mBar;4、腔体有观察窗口,个数不少于1个,窗口尺寸不小于6英寸,窗口带挡光板;5、腔体有load-lock快速进样室,带全量程真空计;6、样品台可安装尺寸不小于4英寸基片,可旋转,可调整工作距离,可加热至不少于800℃,反应气体(氮气N2)可以通到基片; 7、包含至少3个靶枪,分别用于钛Ti、铝Al、铌Nb溅射靶,靶枪配备独立的套筒、开关,可以承受200℃高温,保护气体可以通到溅射靶;8、预留至少4个靶枪接口,可后期升级;9、配备直流靶枪电源,可后期升级至交流靶枪电源;10、阀门、真空泵、靶枪等部件的开关可以通过程序自动控制,用户可以创建、保存、修改工艺流程;11、薄膜沉积均匀性:100mm基片去除5mm边缘后优于±2.5%;12、质保期自验收合格开始至少12个月。 |
预计采购时间: | 2022-09 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
超高真空磁控溅射系统 | |
项目所在采购意向: | zycgr*年9月政府采购意向 |
采购单位: | zycgr* |
采购项目名称: | 超高真空磁控溅射系统 |
预算金额: | 239.*万元(人民币) |
采购品目: | A*其他专用仪器仪表 |
采购需求概况: | 1、超高真空磁控溅射系统可以在超高真空环境下制备高质量的超导薄膜(铝Al、铌Nb、铌钛NbTi、铌钛氮NbTiN等)以及常见的氧化物薄膜(氧化硅SiO2等)。2、采购数量:1台。3、超高真空反应腔体材质304不锈钢,极限真空不超过8×10-8mBar;4、腔体有观察窗口,个数不少于1个,窗口尺寸不小于6英寸,窗口带挡光板;5、腔体有load-lock快速进样室,带全量程真空计;6、样品台可安装尺寸不小于4英寸基片,可旋转,可调整工作距离,可加热至不少于800℃,反应气体(氮气N2)可以通到基片; 7、包含至少3个靶枪,分别用于钛Ti、铝Al、铌Nb溅射靶,靶枪配备独立的套筒、开关,可以承受200℃高温,保护气体可以通到溅射靶;8、预留至少4个靶枪接口,可后期升级;9、配备直流靶枪电源,可后期升级至交流靶枪电源;10、阀门、真空泵、靶枪等部件的开关可以通过程序自动控制,用户可以创建、保存、修改工艺流程;11、薄膜沉积均匀性:100mm基片去除5mm边缘后优于±2.5%;12、质保期自验收合格开始至少12个月。 |
预计采购时间: | 2022-09 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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