原子层沉积ALD镀膜设备招标预告
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原子层沉积ALD镀膜设备招标预告
| 原子层沉积ALD镀膜设备 | |
| 项目所在采购意向： | 同济大学2022年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 同济大学 |
| 采购项目名称： | 原子层沉积ALD镀膜设备 |
| 预算金额： | 800.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A9999其他不另分类的物品 |
| 采购需求概况 ： | 原子层沉积ALD镀膜设备（氟化物）的采购，可以实现埃量级薄膜厚度的精确制备，膜层致密，将在国内首先开展原子层沉积制备Al+氟化物薄膜的研究，采购数量1套，设备能够实现100-135nm波段高效率反射薄膜的制备。规格参数：沉积样品尺寸：大于φ50*500mm；采用电子束工艺制备氟化物LiF、MgF2和AlF3薄膜；独特的氟 (略) ，专为氟化物镀膜配备；设备具有较好的均匀性；加热方式：分布式沉积加热基板。 |
| 预计采购时间： | 2022-11 |
| 备注： | |
| 原子层沉积ALD镀膜设备 | |
| 项目所在采购意向： | 同济大学2022年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 同济大学 |
| 采购项目名称： | 原子层沉积ALD镀膜设备 |
| 预算金额： | 800.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A9999其他不另分类的物品 |
| 采购需求概况 ： | 原子层沉积ALD镀膜设备（氟化物）的采购，可以实现埃量级薄膜厚度的精确制备，膜层致密，将在国内首先开展原子层沉积制备Al+氟化物薄膜的研究，采购数量1套，设备能够实现100-135nm波段高效率反射薄膜的制备。规格参数：沉积样品尺寸：大于φ50*500mm；采用电子束工艺制备氟化物LiF、MgF2和AlF3薄膜；独特的氟 (略) ，专为氟化物镀膜配备；设备具有较好的均匀性；加热方式：分布式沉积加热基板。 |
| 预计采购时间： | 2022-11 |
| 备注： | |
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