zycgr210708012022年12月政府意向-激光直写光刻机-A02100309激光仪器-招标预告
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zycgr210708012022年12月政府意向-激光直写光刻机-A02100309激光仪器-招标预告
| 激光直写光刻机 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr*年12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr* |
| 采购项目名称： | 激光直写光刻机 |
| 预算金额： | 480.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*激光仪器 |
| 采购需求概况 ： | 为了保障科研任务的顺利推进，该公共平台需具备微纳加工、器件制备、物性表征等服务支撑功能。器件制备通常需要经过图形曝光、刻蚀、电极化等步骤。其中，用于图形曝光的光刻机可实现用户自定义的器件构型，是微纳加工平台不可或缺的通用型设备。科研用的光刻机一般分为“有掩模版型光刻机”和“无掩模版型光刻机”。后者也被称为“激光直写光刻机”，该型设备直接通过激光扫描的方式将用户定义的图形曝光于光刻胶中，具备灵活自由、精度高等优点，可用于掩模版制备以及微纳器件曝光。因平台用户需使用8英寸晶圆用于相关器件制备，所以要求该设备具有8英寸向下兼容曝光能力。 本项目计划购置的激光直写光刻机可实现最大8英寸晶圆上连续图形曝光，制备掩模版和微纳器件，最小线宽可达300nm以及正面套刻精度达到300nm，以及不低于10mm2/min的扫描速度。相比于“有掩模版型光刻机”，该型设备具有更高的精度以及灵活性，还可用于制备有掩模版型光刻机所需的掩模版，是微纳加工平台不可或缺的设备。该型设备的采购将保障和增强此公共平台的微纳加工能力，特申请购置。 |
| 预计采购时间： | 2022-12 |
| 激光直写光刻机 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr*年12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr* |
| 采购项目名称： | 激光直写光刻机 |
| 预算金额： | 480.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*激光仪器 |
| 采购需求概况 ： | 为了保障科研任务的顺利推进，该公共平台需具备微纳加工、器件制备、物性表征等服务支撑功能。器件制备通常需要经过图形曝光、刻蚀、电极化等步骤。其中，用于图形曝光的光刻机可实现用户自定义的器件构型，是微纳加工平台不可或缺的通用型设备。科研用的光刻机一般分为“有掩模版型光刻机”和“无掩模版型光刻机”。后者也被称为“激光直写光刻机”，该型设备直接通过激光扫描的方式将用户定义的图形曝光于光刻胶中，具备灵活自由、精度高等优点，可用于掩模版制备以及微纳器件曝光。因平台用户需使用8英寸晶圆用于相关器件制备，所以要求该设备具有8英寸向下兼容曝光能力。 本项目计划购置的激光直写光刻机可实现最大8英寸晶圆上连续图形曝光，制备掩模版和微纳器件，最小线宽可达300nm以及正面套刻精度达到300nm，以及不低于10mm2/min的扫描速度。相比于“有掩模版型光刻机”，该型设备具有更高的精度以及灵活性，还可用于制备有掩模版型光刻机所需的掩模版，是微纳加工平台不可或缺的设备。该型设备的采购将保障和增强此公共平台的微纳加工能力，特申请购置。 |
| 预计采购时间： | 2022-12 |
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