中国科学院深圳先进技术研究院2023年2至3月政府采购意向-磁控溅射镀膜系统-A033499其他专用仪器仪表-预算金额150.000000万元(人民币)
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中国科学院深圳先进技术研究院2023年2至3月政府采购意向-磁控溅射镀膜系统-A033499其他专用仪器仪表-预算金额150.000000万元(人民币)
| 磁控溅射镀膜系统 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 深圳先 (略) 2023年2至3月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 深圳先 (略) |
| 采购项目名称： | 磁控溅射镀膜系统 |
| 预算金额： | 150.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他专用仪器仪表 |
| 采购需求概况： | 用途介绍：用于Au、Cr等金属以及介质材料的镀膜。性能要求：1、具有DC直流溅射能力、RF射频溅射能力、以及反应溅射能力，具有向下溅射系统；2、具有等离子预清洗功能，1KW DC直流电源，300W RF射频电源；3、真空能力：极限真空5 x 10-7Torr，20分钟可达到10-6Torr级别的工艺真空；4、样品台：6”不锈钢射频偏压的旋转样品台，可支持最大6”晶圆或托盘（可放置多个小片），可快速选择优化的低速3RPM和和高速10RPM，样品台最高可加热到300C；5、成膜：均匀性优于+/-2%6、腔门带观察窗，便于观察溅射情况和放片/取片 |
| 预计采购时间： | 2023-03 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 磁控溅射镀膜系统 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 深圳先 (略) 2023年2至3月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 深圳先 (略) |
| 采购项目名称： | 磁控溅射镀膜系统 |
| 预算金额： | 150.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他专用仪器仪表 |
| 采购需求概况： | 用途介绍：用于Au、Cr等金属以及介质材料的镀膜。性能要求：1、具有DC直流溅射能力、RF射频溅射能力、以及反应溅射能力，具有向下溅射系统；2、具有等离子预清洗功能，1KW DC直流电源，300W RF射频电源；3、真空能力：极限真空5 x 10-7Torr，20分钟可达到10-6Torr级别的工艺真空；4、样品台：6”不锈钢射频偏压的旋转样品台，可支持最大6”晶圆或托盘（可放置多个小片），可快速选择优化的低速3RPM和和高速10RPM，样品台最高可加热到300C；5、成膜：均匀性优于+/-2%6、腔门带观察窗，便于观察溅射情况和放片/取片 |
| 预计采购时间： | 2023-03 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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