zycgr210708012023年4至12月政府意向-多腔体电子束镀膜机-A02100305电子光学及离子光学仪器-预算金额500.000000万元(人民币)招标预告
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zycgr210708012023年4至12月政府意向-多腔体电子束镀膜机-A02100305电子光学及离子光学仪器-预算金额500.000000万元(人民币)招标预告
| 多腔体电子束镀膜机 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr*年4至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr* |
| 采购项目名称： | 多腔体电子束镀膜机 |
| 预算金额： | 500.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子光学及离子光学仪器 |
| 采购需求概况 ： | 该设备主要用于沉积硅基半导体量子芯片的金属栅电极薄膜，需要达到以下条件： 1、沉积腔的真空度达到10e-9 torr及更高； 2、沉积薄膜批内和批间的均匀性达到±3%@4英寸或更优； 3、四腔体结构：loadlock、镀膜、刻蚀、氧化腔； 4、配备等离子刻蚀源及腔体，刻蚀均匀性±3%； 5、配备氧化工艺腔、流量计与工艺气体； |
| 预计采购时间： | 2023-09 |
| 多腔体电子束镀膜机 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr*年4至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr* |
| 采购项目名称： | 多腔体电子束镀膜机 |
| 预算金额： | 500.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子光学及离子光学仪器 |
| 采购需求概况 ： | 该设备主要用于沉积硅基半导体量子芯片的金属栅电极薄膜，需要达到以下条件： 1、沉积腔的真空度达到10e-9 torr及更高； 2、沉积薄膜批内和批间的均匀性达到±3%@4英寸或更优； 3、四腔体结构：loadlock、镀膜、刻蚀、氧化腔； 4、配备等离子刻蚀源及腔体，刻蚀均匀性±3%； 5、配备氧化工艺腔、流量计与工艺气体； |
| 预计采购时间： | 2023-09 |
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