实现精确的原子级镀膜方面具备显著优势能够显著提升薄膜的光学性能、抗激光损伤能力和使用寿命。(镀膜机在正文或附件中)

多靶直流/射频磁控溅射镀膜机(镀膜机在正文或附件中)

主要用于微透镜阵列深紫外薄膜制备(镀膜机在正文或附件中)

1台；配置9英寸圆形工件台可装载8英寸衬底；304不锈钢D形真空室自动进样室；低温泵、分子泵组；全量...(镀膜机在正文或附件中)

镀膜机(镀膜机在正文或附件中)

拟采购数量：1套。包含自动进样室；低温泵、分子泵组；全量程真空计低真空计等；脉冲直流电源射频溅射电源...(镀膜机在正文或附件中)

光学真空镀膜机由真空系统、加热源、控制系统组成是一种利用真空技术在光学元件表面形成薄膜的设备。通过在...(镀膜机在正文或附件中)

本项目包括真空镀膜机设备1台：真空腔体水冷设计全自动控制软件。(镀膜机在正文或附件中)

200mm样品处理能力；免水氧条件进样；多进料管线和端口协同工作；精确沉积特定元素比例和厚度的合金涂...(镀膜机在正文或附件中)

名称：卷绕式磁控溅射真空镀膜机功能或目标：可穿戴装备已成为纳米技术、信息技术与生物技术等领域交叉创新...(镀膜机在正文或附件中)

主要指标及配置：1、平面行星转动部套：可装载直径尺寸不大于Ф1000净重不大于800Kg的工件三件；(镀膜机在正文或附件中)

数量：1套。该设备主要用于沉积硅基半导体量子芯片的金属栅电极薄膜(镀膜机在正文或附件中)

数量：1套。该设备主要用于沉积硅基半导体量子芯片的金属栅电极薄膜(镀膜机在正文或附件中)

1）指标：a)(镀膜机在正文或附件中)

该设备主要用于沉积硅基半导体量子芯片的金属栅电极薄膜需要达到以下条件：1、沉积腔的真空度达到10e-...(镀膜机在正文或附件中)

1.(镀膜机在正文或附件中)

1.系统能完成金属材料的沉积和蒸镀由高真空腔室、电子枪、蒸发源、样品台、衬底离子清洗、快速进样室等部...(镀膜机在正文或附件中)

建筑材料工业技术情报研究所功能型矿物掺合料在特种混凝土中的应用技术研究平台建设项目 ...(镀膜机在正文或附件中)

实现DLC薄膜的沉积(镀膜机在正文或附件中)

用于边发射激光器、波导探测器、电光调制器、端面耦合型光子芯片、光纤等的端面镀膜。(镀膜机在正文或附件中)

拟采购一台该设备主要用于沉积硅基半导体量子芯片的金属栅电极薄膜需要达到以下条件：1、沉积腔的真空度达...(镀膜机在正文或附件中)

其离子束入射角可调便于进行多种刻蚀形貌的调节。(镀膜机在正文或附件中)

可在不同种类和尺寸衬底上通过热沉积等和等离子体增强沉积方式沉积氧化物等薄膜材料。主要技术参数：镀膜样...(镀膜机在正文或附件中)

主要功能：光学薄膜镀制要求：1）镀膜腔体直径≥1300mm；2）极限真空优于5×10-5Pa；3）基...(镀膜机在正文或附件中)

类似设备使用超过10年从性能和产能上都难以满足低损耗光学薄膜的制备。而这种薄膜在光束控制等方面不可或...(镀膜机在正文或附件中)

溅射制备氧化铪膜层在脉冲激光领域具有广泛的应用和研究价值但是氧化铪膜材需要混合一定比例其他氧化物材料...(镀膜机在正文或附件中)

包含显微镜2台、台阶仪2台、等离子增强化学气相沉积1台、磁控溅射镀膜机1台和电子束蒸发台2台要求交货...(镀膜机在正文或附件中)

过程腔室体积为58L真空抽速260l/s极限真空2E-6torr；2英寸标准磁场靶枪500W直流电源...(镀膜机在正文或附件中)

拟采购金属材料离子源辅助磁控溅射镀膜机一台主要技术参数：真空室腔壁及真空室门配备水冷；真空室长度不小...(镀膜机在正文或附件中)

拟采购介电材料离子源辅助磁控溅射镀膜机1台技术参数需求：真空系统：无油真空系统抽气和放气带缓抽缓放功...(镀膜机在正文或附件中)