年8至12月政府意向-氮化硅低压化学气相沉积LPCVD设备其他电气设备-预算金额万元人民币招标预告
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年8至12月政府意向-氮化硅低压化学气相沉积LPCVD设备其他电气设备-预算金额万元人民币招标预告
| 氮化硅低压化学气相沉积(LPCVD)设备 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr*年8至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr* |
| 采购项目名称： | 氮化硅低压化学气相沉积(LPCVD)设备 |
| 预算金额： | 800.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他电气设备 |
| 采购需求概况 ： | 氮化硅LPCVD设备是完成异质、异构光电子集成工艺探索与芯片加工制造的重要设备。LPCVD设备主要由能够承受所需工艺温度和压力的反应时，精确控制温度的加热系统，气体供给系统，抽取气体和维持所需要压力的泵系统及控制系统组成。LPCVD设备在薄膜制备、半导体器件制造、光学器件制造、材料研究及表征等领域具有广泛的应用和重要意义。项目拟采购的LPCVD设备主要用于制备超低损耗氮化硅工艺，与前期采购的高温退火设备配套使用。 |
| 预计采购时间： | 2023-09 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 氮化硅低压化学气相沉积(LPCVD)设备 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr*年8至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr* |
| 采购项目名称： | 氮化硅低压化学气相沉积(LPCVD)设备 |
| 预算金额： | 800.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他电气设备 |
| 采购需求概况 ： | 氮化硅LPCVD设备是完成异质、异构光电子集成工艺探索与芯片加工制造的重要设备。LPCVD设备主要由能够承受所需工艺温度和压力的反应时，精确控制温度的加热系统，气体供给系统，抽取气体和维持所需要压力的泵系统及控制系统组成。LPCVD设备在薄膜制备、半导体器件制造、光学器件制造、材料研究及表征等领域具有广泛的应用和重要意义。项目拟采购的LPCVD设备主要用于制备超低损耗氮化硅工艺，与前期采购的高温退火设备配套使用。 |
| 预计采购时间： | 2023-09 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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