复旦大学2023年11月政府采购意向-真空多腔体磁性器件溅射镀膜设备电子工业生产设备-预算金额万元人民币
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复旦大学2023年11月政府采购意向-真空多腔体磁性器件溅射镀膜设备电子工业生产设备-预算金额万元人民币
| 真空多腔体磁性器件溅射镀膜设备 | |
| 项目所在采购意向： | 复旦大学2023年11月政府采购意向 |
| 采购单位： | 复旦大学 |
| 采购项目名称： | 真空多腔体磁性器件溅射镀膜设备 |
| 预算金额： | 700.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A* 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 该溅射镀膜设备是专为磁性器件的表面处理和镀膜设计的，其主要目的是通过高真空条件下的溅射过程，实现磁性材料的高质量、高均匀度的镀膜。该设备主要应用于磁性器件的制造和研究，提高器件的性能和稳定性。核心组成部分包括多腔体设计、高真空系统、溅射源以及膜层厚度和性质分析系统，能够实现高效率、高质量的溅射镀膜过程 |
| 预计采购时间： | 2023-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 真空多腔体磁性器件溅射镀膜设备 | |
| 项目所在采购意向： | 复旦大学2023年11月政府采购意向 |
| 采购单位： | 复旦大学 |
| 采购项目名称： | 真空多腔体磁性器件溅射镀膜设备 |
| 预算金额： | 700.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A* 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况： | 该溅射镀膜设备是专为磁性器件的表面处理和镀膜设计的，其主要目的是通过高真空条件下的溅射过程，实现磁性材料的高质量、高均匀度的镀膜。该设备主要应用于磁性器件的制造和研究，提高器件的性能和稳定性。核心组成部分包括多腔体设计、高真空系统、溅射源以及膜层厚度和性质分析系统，能够实现高效率、高质量的溅射镀膜过程 |
| 预计采购时间： | 2023-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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