中国科学院光电技术研究所2024年4至9月政府采购意向-激光直写设备工艺试验机-预算金额万元人民币
中国科学院光电技术研究所2024年4至9月政府采购意向-激光直写设备工艺试验机-预算金额万元人民币
激光直写设备 | |
项目所在采购意向: | (略) 光电技术研究所2024年4至9月政府采购意向 |
采购单位: | (略) 光电技术研究所 |
采购项目名称: | 激光直写设备 |
预算金额: | 582.*万元(人民币) |
采购品目: | A*工艺试验机 |
采购需求概况: | 激光直写光刻设备能够实现投影光刻物理掩模的制备,精度较高,能够避免多套掩模之间的套刻对准环节。特征尺寸:300-600 nm,灰度曝光模式:>265灰度级;光源:300 mW,405 nm |
预计采购时间: | 2024-08 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
激光直写设备 | |
项目所在采购意向: | (略) 光电技术研究所2024年4至9月政府采购意向 |
采购单位: | (略) 光电技术研究所 |
采购项目名称: | 激光直写设备 |
预算金额: | 582.*万元(人民币) |
采购品目: | A*工艺试验机 |
采购需求概况: | 激光直写光刻设备能够实现投影光刻物理掩模的制备,精度较高,能够避免多套掩模之间的套刻对准环节。特征尺寸:300-600 nm,灰度曝光模式:>265灰度级;光源:300 mW,405 nm |
预计采购时间: | 2024-08 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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