中国科学院电工研究所2024年10月政府采购意向-射频磁控溅射设备详细情况万元人民币
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中国科学院电工研究所2024年10月政府采购意向-射频磁控溅射设备详细情况万元人民币
| 射频reel-to-reel磁控溅射设备 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 电工研究所2024年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 电工研究所 |
| 采购项目名称： | 射频reel-to-reel磁控溅射设备 |
| 预算金额： | 700.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 射频reel-to-reel磁控溅射设备用于在金属基带上沉积百米级别的Y2O3和Al2O3缓冲层，以及在高温下沉积LMO缓冲层。该设备具有卷绕功能，支持多靶位，能够在850℃下高速沉积。 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 射频reel-to-reel磁控溅射设备 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 电工研究所2024年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 电工研究所 |
| 采购项目名称： | 射频reel-to-reel磁控溅射设备 |
| 预算金额： | 700.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*电子工业专用生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 射频reel-to-reel磁控溅射设备用于在金属基带上沉积百米级别的Y2O3和Al2O3缓冲层，以及在高温下沉积LMO缓冲层。该设备具有卷绕功能，支持多靶位，能够在850℃下高速沉积。 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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