2024年10月政府采购意向-磁控溅射设备详细情况万元人民币
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2024年10月政府采购意向-磁控溅射设备详细情况万元人民币
| 磁控溅射设备 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 赣 (略) 2024年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 赣 (略) |
| 采购项目名称： | 磁控溅射设备 |
| 预算金额： | 150.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他机械设备 |
| 采购需求概况 ： | 1)系统整体包含进样室和多靶溅射腔室以及配套的控制系统和真空传输系统 2)主腔室本底真空优于 5×10-8 mbar 3)进样室可放置 6个4 inch 晶圆（向下兼容） 4) (略) Horiba 或同级别 MFC（Ar、N2、O2、预留）实现进气，支持反应溅射 5)最高加热温度在 800℃以上（可更换加热盘，最高加热温度可达 1200℃） 6) PID 温控精度≤±1℃ 7)镀膜不均匀性：薄膜不均匀性≤±3% 8)沉积精度：0.1nm 9)主腔室预留 9个2 inch 超高真空阴极接口，配备5个阴极，垂直溅射阴极可更换为4 inch 阴极 10）直流电源 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 磁控溅射设备 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 赣 (略) 2024年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 赣 (略) |
| 采购项目名称： | 磁控溅射设备 |
| 预算金额： | 150.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A*其他机械设备 |
| 采购需求概况 ： | 1)系统整体包含进样室和多靶溅射腔室以及配套的控制系统和真空传输系统 2)主腔室本底真空优于 5×10-8 mbar 3)进样室可放置 6个4 inch 晶圆（向下兼容） 4) (略) Horiba 或同级别 MFC（Ar、N2、O2、预留）实现进气，支持反应溅射 5)最高加热温度在 800℃以上（可更换加热盘，最高加热温度可达 1200℃） 6) PID 温控精度≤±1℃ 7)镀膜不均匀性：薄膜不均匀性≤±3% 8)沉积精度：0.1nm 9)主腔室预留 9个2 inch 超高真空阴极接口，配备5个阴极，垂直溅射阴极可更换为4 inch 阴极 10）直流电源 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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