2024年10至12月政府采购意向-高温高真空薄膜沉积系统详细情况万元人民币
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2024年10至12月政府采购意向-高温高真空薄膜沉积系统详细情况万元人民币
| 高温高真空薄膜沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 苏州纳米技术与纳米仿生研究所2024年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 采购项目名称： | 高温高真空薄膜沉积系统 |
| 预算金额： | 680.(略)万元(人民币) |
| 采购品目： | A(略)电子工业生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 用于实现高质量的氧化物、氮化物及多元金属/化合物薄膜的制备，工艺腔极限真空满足低于5E-8Torr，基片加热温度能达到800℃的能力， (略) 工艺气体且控制精度不高于读数的±0.5%;带传片LoadLock;配置样品反溅射和离子源系统，以实际公告为准。 |
| 预计采购时间： | 2024-11 |
| 备注： | 详见项目详情 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 高温高真空薄膜沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | (略) 苏州纳米技术与纳米仿生研究所2024年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 采购项目名称： | 高温高真空薄膜沉积系统 |
| 预算金额： | 680.(略)万元(人民币) |
| 采购品目： | A(略)电子工业生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 用于实现高质量的氧化物、氮化物及多元金属/化合物薄膜的制备，工艺腔极限真空满足低于5E-8Torr，基片加热温度能达到800℃的能力， (略) 工艺气体且控制精度不高于读数的±0.5%;带传片LoadLock;配置样品反溅射和离子源系统，以实际公告为准。 |
| 预计采购时间： | 2024-11 |
| 备注： | 详见项目详情 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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