等离子增强化学气相沉积设备成膜腔招标变更(2)
等离子增强化学气相沉积设备成膜腔招标变更(2)
澄清或变更简要说明:购买标书截止时间由 点击查看>> * : * 变更为 点击查看>> * : *
(略) (略) ,于 点击查看>> - (略) 。 (略) 方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况:等离子增强化学气相沉积设备成膜腔1台
资金到位或资金来源落实情况:已到位
(略) 条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目编号: 点击查看>>
招标项目名称:等离子增强化学气相沉积设备成膜腔
项目实施地点:中国 (略) 省
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 等离子增强化学气相沉积设备成膜腔 | 1台 | (1)所购设备主要用于低温多晶硅薄膜晶体管液晶显示器工业中PECVD(等离子体增强型化学气相沉积)成膜,用于形成栅绝缘层(GI)、金属层间绝缘层(IMD)。 (2)后续买方如需生产0.3mm基板,制造商需全力配合买方实现生产0.3mm基板的改造;(3)设备可用于生产栅绝缘层薄膜,金属层间绝缘层薄膜。 | 点击查看>> |
澄清或变更简要说明:购买标书截止时间由 点击查看>> * : * 变更为 点击查看>> * : *
(略) (略) ,于 点击查看>> - (略) 。 (略) 方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况:等离子增强化学气相沉积设备成膜腔1台
资金到位或资金来源落实情况:已到位
(略) 条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目编号: 点击查看>>
招标项目名称:等离子增强化学气相沉积设备成膜腔
项目实施地点:中国 (略) 省
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 等离子增强化学气相沉积设备成膜腔 | 1台 | (1)所购设备主要用于低温多晶硅薄膜晶体管液晶显示器工业中PECVD(等离子体增强型化学气相沉积)成膜,用于形成栅绝缘层(GI)、金属层间绝缘层(IMD)。 (2)后续买方如需生产0.3mm基板,制造商需全力配合买方实现生产0.3mm基板的改造;(3)设备可用于生产栅绝缘层薄膜,金属层间绝缘层薄膜。 | 点击查看>> |
最近搜索
无
热门搜索
无