安徽省8英寸MEMS晶圆生产线之氧化清洗湿台、标准清洗湿台、硫酸去胶湿台、有机去胶湿台、BOE湿台国际招标澄清或变更公告2/02包
安徽省8英寸MEMS晶圆生产线之氧化清洗湿台、标准清洗湿台、硫酸去胶湿台、有机去胶湿台、BOE湿台国际招标澄清或变更公告2/02包
澄清或变更简要说明:变更招标文件
苏美达 (略) 受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标,于2024-04-30在发布变更公告。本次招标采用传统招标方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况:品目1
设备名称:氧化清洗湿台
设备数量:1台
设备用途:本设备适用于八寸晶圆溅射前清洗、氧化清洗、键合工艺,采用H2SO4、H2O2、HF、氨水和盐酸溶液通过化学反应达到清洗晶圆表面的目的。
品目2
设备名称:标准清洗湿台
设备数量:2台
设备用途:本设备适用于八寸晶圆溅射前清洗、氧化清洗、键合工艺,采用H2SO4、H2O2、HF、氨水和盐酸溶液通过化学反应达到清洗晶圆表面的目的。
品目3
设备名称:硫酸去胶湿台
设备数量:1台
设备用途:本设备适用于八寸晶圆光刻胶去除清洗工艺,采用H2SO4、H2O2和NH4OH溶液通过化学反应达到光刻胶去除、清洗的作用。
品目4
设备名称:有机去胶湿台
设备数量:1台
设备用途:本设备适用于八寸晶圆聚合物去除工艺,采用EKC溶液和NMP溶液通过化学反应达到去除聚合物和光刻胶的目的。
品目5
设备名称:BOE湿台
设备数量:1台
设备用途:本设备适用于八寸晶圆二氧化硅腐蚀、氮化硅腐蚀工艺,采用HF、NH4F、H3PO4溶液通过化学反应达到腐蚀二氧化硅和氮化硅的目的。
资金到位或资金来源落实情况:已到位
项目已具备招标条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目编号:0664-2440SUMECF20/02
招标项目名称:8英寸MEMS晶圆生产线之氧化清洗湿台、标准清洗湿台、硫酸去胶湿台、有机去胶湿台、BOE湿台
项目实施地点:中国安徽省
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 氧化清洗湿台 | 1 | 气压控制:具有氮气、CDA、排风具备压力监控功能。其他参数详见第八章 | 无 |
2 | 标准清洗湿台 | 2 | 水气枪:配有进口PP水气枪。其他参数详见第八章 | 无 |
3 | 硫酸去胶湿台 | 1 | 测漏感知:设备底部配有防漏盘和漏液传感器检测漏液,防漏盘上的漏液能通过排放端口排走。其他参数详见第八章 | 无 |
4 | 有机去胶湿台 | 1 | 移门:有机玻璃移门,配有检测门开传感器,具有联动互锁功能。其他参数详见第八章 | 无 |
5 | BOE湿台 | 1 | 定位方式:底部附万向转轮与活动式调整脚。其他参数详见第八章 | 无 |
澄清或变更简要说明:变更招标文件
苏美达 (略) 受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标,于2024-04-30在发布变更公告。本次招标采用传统招标方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况:品目1
设备名称:氧化清洗湿台
设备数量:1台
设备用途:本设备适用于八寸晶圆溅射前清洗、氧化清洗、键合工艺,采用H2SO4、H2O2、HF、氨水和盐酸溶液通过化学反应达到清洗晶圆表面的目的。
品目2
设备名称:标准清洗湿台
设备数量:2台
设备用途:本设备适用于八寸晶圆溅射前清洗、氧化清洗、键合工艺,采用H2SO4、H2O2、HF、氨水和盐酸溶液通过化学反应达到清洗晶圆表面的目的。
品目3
设备名称:硫酸去胶湿台
设备数量:1台
设备用途:本设备适用于八寸晶圆光刻胶去除清洗工艺,采用H2SO4、H2O2和NH4OH溶液通过化学反应达到光刻胶去除、清洗的作用。
品目4
设备名称:有机去胶湿台
设备数量:1台
设备用途:本设备适用于八寸晶圆聚合物去除工艺,采用EKC溶液和NMP溶液通过化学反应达到去除聚合物和光刻胶的目的。
品目5
设备名称:BOE湿台
设备数量:1台
设备用途:本设备适用于八寸晶圆二氧化硅腐蚀、氮化硅腐蚀工艺,采用HF、NH4F、H3PO4溶液通过化学反应达到腐蚀二氧化硅和氮化硅的目的。
资金到位或资金来源落实情况:已到位
项目已具备招标条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目编号:0664-2440SUMECF20/02
招标项目名称:8英寸MEMS晶圆生产线之氧化清洗湿台、标准清洗湿台、硫酸去胶湿台、有机去胶湿台、BOE湿台
项目实施地点:中国安徽省
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 氧化清洗湿台 | 1 | 气压控制:具有氮气、CDA、排风具备压力监控功能。其他参数详见第八章 | 无 |
2 | 标准清洗湿台 | 2 | 水气枪:配有进口PP水气枪。其他参数详见第八章 | 无 |
3 | 硫酸去胶湿台 | 1 | 测漏感知:设备底部配有防漏盘和漏液传感器检测漏液,防漏盘上的漏液能通过排放端口排走。其他参数详见第八章 | 无 |
4 | 有机去胶湿台 | 1 | 移门:有机玻璃移门,配有检测门开传感器,具有联动互锁功能。其他参数详见第八章 | 无 |
5 | BOE湿台 | 1 | 定位方式:底部附万向转轮与活动式调整脚。其他参数详见第八章 | 无 |
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