主要功能:在陶瓷基复合材料表面制备CVD-SiC涂层数量:1台要求:最高温度1600℃;有效区域≥φ...(气相沉积炉在正文或附件中)
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中国科学院上海硅酸盐研究所2023年3至12月政府采购意向-SiC化学气相沉积炉-A02062001工业电热设备(电炉)-预算金额480.000000万元(人民币) 2023-3-3北京 -
中国科学院赣江创新研究院2023年5月政府采购意向-化学气相沉积炉-A02062001工业电热设备(电炉)-预算金额300.000000万元(人民币) 化学气相沉积炉主要用于陶瓷复合材料的涂层及基体的制备。可用于制备碳化硅和氮化硼的界面、基体及部件外表...(气相沉积炉在正文或附件中)
2023-3-2北京
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