双室高真空磁控溅射薄膜沉积设备招标预告

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双室高真空磁控溅射薄膜沉积设备招标预告



双室高真空磁控溅射薄膜沉积设备项目

所在采购意向： (略) (略) * 年2至12月政府采购意向采购单位： (略) (略) 采购项目名称：双室高真空磁控溅射薄膜沉积设备预算金额： * . 点击查看>> 万元(人民币)采购品目：


A 点击查看>> 采购需求概况：
镀膜设备主要用于太阳能膜层的制备，该设备要求满足1、溅射室：极限真空度：≤6x10-6Pa，溅射室25分钟可达到6x10-4Pa；2、样品：样品尺寸最大可达4英寸圆形样品；膜厚均匀性优于±4%；（以铜标定），共溅射φ * mm范围内；3、靶材及溅射气体要求：至少3英寸，至少3套； * SCCM（氩气）、 * SCCM（氮气）、50SCCM（氧气）质量流量控制器；4、直流电源和射频电源至少3台，进口品牌；5、加热炉温：＞ * ℃，售后要求满足7X24小时，保修3年，供货期要求签订合同后3个月。预计采购时间： 点击查看>> 备注：


双室高真空磁控溅射薄膜沉积设备项目

所在采购意向： (略) (略) * 年2至12月政府采购意向采购单位： (略) (略) 采购项目名称：双室高真空磁控溅射薄膜沉积设备预算金额： * . 点击查看>> 万元(人民币)采购品目：


A 点击查看>> 采购需求概况：
镀膜设备主要用于太阳能膜层的制备，该设备要求满足1、溅射室：极限真空度：≤6x10-6Pa，溅射室25分钟可达到6x10-4Pa；2、样品：样品尺寸最大可达4英寸圆形样品；膜厚均匀性优于±4%；（以铜标定），共溅射φ * mm范围内；3、靶材及溅射气体要求：至少3英寸，至少3套； * SCCM（氩气）、 * SCCM（氮气）、50SCCM（氧气）质量流量控制器；4、直流电源和射频电源至少3台，进口品牌；5、加热炉温：＞ * ℃，售后要求满足7X24小时，保修3年，供货期要求签订合同后3个月。预计采购时间： 点击查看>> 备注：
    
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