中国科学院物理研究所2024年3月政府采购意向-高真空双室磁控溅射薄膜沉积设备2024预算04-A-货物设备_A0-预算金额万元人民币
发送至邮箱
中国科学院物理研究所2024年3月政府采购意向-高真空双室磁控溅射薄膜沉积设备2024预算04-A-货物设备_A0-预算金额万元人民币
| 高真空双室磁控溅射薄膜沉积设备(2024预算04) | |
| 项目所在采购意向： | (略) 物理研究所2024年3月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 物理研究所 |
| 采购项目名称： | 高真空双室磁控溅射薄膜沉积设备(2024预算04) |
| 预算金额： | 150.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A-货物*设备*仪器仪表*试验仪器及装置*其他试验仪器及装置 |
| 采购需求概况： | 该设备需配备加热装置和膜厚测量装置，并可实现基片进样，抽真空，预溅射，工艺溅射，溅射完成后基片取样，传递至进样室的全流程自动化控制，并需要具有单独溅射、轮流溅射、共溅射的功能，需可实现单质、二元、三元均匀薄膜和组合材料薄膜的制备。具体技术指标及配置如下：配备溅射室和送样室，溅射室真空度优于10-4 Pa；系统从大气开始抽气，溅射室35分钟可达到6.6x10-4 Pa；磁控溅射靶个数不少于3个；热台最高温度不低于550℃。 |
| 预计采购时间： | 2024-03 |
| 备注： | 2024预算04 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 高真空双室磁控溅射薄膜沉积设备(2024预算04) | |
| 项目所在采购意向： | (略) 物理研究所2024年3月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) 物理研究所 |
| 采购项目名称： | 高真空双室磁控溅射薄膜沉积设备(2024预算04) |
| 预算金额： | 150.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A-货物*设备*仪器仪表*试验仪器及装置*其他试验仪器及装置 |
| 采购需求概况： | 该设备需配备加热装置和膜厚测量装置，并可实现基片进样，抽真空，预溅射，工艺溅射，溅射完成后基片取样，传递至进样室的全流程自动化控制，并需要具有单独溅射、轮流溅射、共溅射的功能，需可实现单质、二元、三元均匀薄膜和组合材料薄膜的制备。具体技术指标及配置如下：配备溅射室和送样室，溅射室真空度优于10-4 Pa；系统从大气开始抽气，溅射室35分钟可达到6.6x10-4 Pa；磁控溅射靶个数不少于3个；热台最高温度不低于550℃。 |
| 预计采购时间： | 2024-03 |
| 备注： | 2024预算04 |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
招投标大数据
最近搜索
无
热门搜索
无
