复旦大学2024年10月政府采购意向-原子层沉积ALD详细情况万元人民币
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复旦大学2024年10月政府采购意向-原子层沉积ALD详细情况万元人民币
| 原子层沉积 (ALD) | |
| 项目所在采购意向： | 复旦大学2024年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | 复旦大学 |
| 采购项目名称： | 原子层沉积 (ALD) |
| 预算金额： | 280.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A* 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 原子层沉积（ALD）是一种高度精密和可控的薄膜制备技术，常用于制备纳米级薄膜、半导体器件和光电子器件。在半导体制造中，ALD被广泛应用于制备高k介电材料、金属栅极和互连材料。此外，ALD还可用于生产纳米结构的绝缘体和薄膜电致发光显示器的发光层等领域。本项目根据科研需求计划采购一台原子层沉积设备。 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 原子层沉积 (ALD) | |
| 项目所在采购意向： | 复旦大学2024年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | 复旦大学 |
| 采购项目名称： | 原子层沉积 (ALD) |
| 预算金额： | 280.*万元(人民币) |
| 采购品目： | A* 电子工业生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 原子层沉积（ALD）是一种高度精密和可控的薄膜制备技术，常用于制备纳米级薄膜、半导体器件和光电子器件。在半导体制造中，ALD被广泛应用于制备高k介电材料、金属栅极和互连材料。此外，ALD还可用于生产纳米结构的绝缘体和薄膜电致发光显示器的发光层等领域。本项目根据科研需求计划采购一台原子层沉积设备。 |
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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