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复旦大学2024年10月政府采购意向-原子层沉积ALD详细情况万元人民币 原子层沉积（ALD）是一种高度精密和可控的薄膜制备技术常用于制备纳米级薄膜、半导体器件和光电子器件。...(ALD在正文或附件中)
2024-9-20上海 -
复旦大学2024年10月政府采购意向-原子层沉积设备详细情况万元人民币 原子层沉积设备主要用于沉积出薄膜材料例如Ⅱ-Ⅵ化合物、Ⅱ-Ⅵ基TFEL磷光材料、Ⅲ-V化合物、氮(碳...(ALD在正文或附件中)
2024-9-20上海 -
同济大学2023年政府采购意向公开（02-02） 政府采购意向公告 为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工...(ALD在正文或附件中)
2023-2-7上海 -
多腔室新型高k金属栅ALD生长系统招标预告 作为一种优异的镀膜技术(ALD在正文或附件中)
2023-2-7上海 -
原子层沉积ALD镀膜设备（氟化物）招标预告 利用本设备将在国内首先开展原子层沉积制备氟化物薄膜的研究实现100-135nm波段高效率反射推动我国...(ALD在正文或附件中)
2023-2-7上海 -
复旦大学2022年12月政府采购意向-等离子体辅助原子层沉积系统-A032103电子工业专用生产设备-预算金额240.000000万元(人民币) 双腔型等离子体设备较传统单腔型ALD其优势在于可以生长高质量氮化物和金属单质薄膜同时也能兼容普通热型...(ALD在正文或附件中)
2022-11-24上海 -
复旦大学2022年12月政府采购意向-快速热退火设备-A032103电子工业专用生产设备-预算金额500.000000万元(人民币) 快速热退火设备主要用于集成电路工艺中ALD(ALD在正文或附件中)
2022-11-22上海 -
复旦大学2022年12月政府采购意向-PVD/ALD/ALE/RTP/Etcher集成设备-A02100699其他试验仪器及装置-预算金额6000.000000万元(人民币) 传统分离式工艺设备与腔体在材料生长与器件制备过程中极易造成样品沾污与损坏该套设备集成了薄膜生长、刻蚀...(ALD在正文或附件中)
2022-11-22上海 -
华东师范大学2022年11至12月政府意向-原子层沉积系统（ALD）招标预告 科研教学用设备(ALD在正文或附件中)
2022-11-11上海 -
同济大学2022年政府采购意向公开(10-05) 为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔202...(ALD在正文或附件中)
2022-10-27上海 -
原子层沉积ALD镀膜设备招标预告 原子层沉积ALD镀膜设备（氟化物）的采购可以实现埃量级薄膜厚度的精确制备膜层致密将在国内首先开展原子...(ALD在正文或附件中)
2022-10-27上海 -
上海交通大学2021年5至6月政府采购意向-薄膜精确制造系统-原子层沉积(AtomicLayerDeposition，AL 原子层沉积(Atomic(ALD在正文或附件中)
2021-4-22上海 -
原子层沉积(ALD) 招标预告 PEALD(等离子增强原子层沉积)支持氧化铝、氧化铪、氧化锌、氧化锡、氮化钛沉积。等离子、NH3、O...(ALD在正文或附件中)
2021-3-2上海
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