年10至12月政府采购意向-薄膜沉积设备PECVD及刻蚀设备ICP详细情况万元人民币
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年10至12月政府采购意向-薄膜沉积设备PECVD及刻蚀设备ICP详细情况万元人民币
| 薄膜沉积设备（PECVD）及刻蚀设备（ICP） | |
| 项目所在采购意向： | zycgr#年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr# |
| 采购项目名称： | 薄膜沉积设备（PECVD）及刻蚀设备（ICP） |
| 预算金额： | 2250.#万元(人民币) |
| 采购品目： | A#其他电气设备 |
| 采购需求概况 ： | 薄膜沉积设备（PECVD），是一种化学气相沉积设备，采用等 (略) 理的方式将反应性气体激活，经过化学反应沉积所需要的薄膜层。电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备，是一种将射频电源的能量经由电感线圈,以磁场耦合的形式进入反应腔内部,从而产生等离子体并用于刻蚀的设备。 |
| 预计采购时间： | 2024-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
| 薄膜沉积设备（PECVD）及刻蚀设备（ICP） | |
| 项目所在采购意向： | zycgr#年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr# |
| 采购项目名称： | 薄膜沉积设备（PECVD）及刻蚀设备（ICP） |
| 预算金额： | 2250.#万元(人民币) |
| 采购品目： | A#其他电气设备 |
| 采购需求概况 ： | 薄膜沉积设备（PECVD），是一种化学气相沉积设备，采用等 (略) 理的方式将反应性气体激活，经过化学反应沉积所需要的薄膜层。电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备，是一种将射频电源的能量经由电感线圈,以磁场耦合的形式进入反应腔内部,从而产生等离子体并用于刻蚀的设备。 |
| 预计采购时间： | 2024-11 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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