1、兼容样品尺寸4*4cm产能20-30片/管(PECVD在正文或附件中)

薄膜沉积设备（PECVD）是一种化学气相沉积设备采用等离子体处理的方式将反应性气体激活经过化学反应沉...(PECVD在正文或附件中)

氮化镓放大器中需要均匀、高重复性介质膜作为晶体管钝化材料与电容介质。随6G器件频率的提高晶体管寄生电...(PECVD在正文或附件中)

本设备主要用于PECVD(Si3N4/SiON/SiO2)LPCVD(Poly/SiO2/Si3N4...(PECVD在正文或附件中)

薄膜沉积设备是一种应用广泛的薄膜沉积技术属于化学气相沉积中的一种是指采用等离子体处理的方式将反应性气...(PECVD在正文或附件中)

薄膜沉积设备是一种应用广泛的薄膜沉积技术属于化学气相沉积中的一种是指采用等离子体处理的方式将反应性气...(PECVD在正文或附件中)

用于低温下氧化硅、氮化硅的快速沉积(PECVD在正文或附件中)

拟采购等离子体增强化学气相沉积PECVD1台技术参数需求：等离子源：配有RF射频电源功率不小于300...(PECVD在正文或附件中)

（一）采购标的名称：原位纳米叠层超结构电极材料沉积系统（二）采购标需实现的主要功能或者目标可实现大面...(PECVD在正文或附件中)

生长绝缘氧化层隔绝电极(PECVD在正文或附件中)

　　教育部申请清华大学PECVD(Si3N4/SiON/SiO2) 采购项目采用单一来源方式采...(PECVD在正文或附件中)

为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》...(PECVD在正文或附件中)

全自动量产型干法刻蚀设备（1套）将用于基于12英寸大晶圆的硅光工艺加工通过利用电感耦合等离子体源创建...(PECVD在正文或附件中)

1.名称：PECVD2.功能：用于实现半导体MEMS制造流程中的等离子体增强化学气相沉积工艺（PEC...(PECVD在正文或附件中)

ICP-CVD气相沉积系统1套PECVD系统可以借助微波或射频源使含有薄膜组成原子的气体在局部形成等...(PECVD在正文或附件中)

等离子体增强化学气相沉积系统（PECVD）：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离在局部形成...(PECVD在正文或附件中)

天合科技——仪器仪表及电机照明收藏|举报|反馈付费报价距离报价结束还剩9天报价收费：10.0?收到报...(PECVD在正文或附件中)