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热场发射扫描电子显微镜招标公告 项目名称:热场发射扫描电子显微镜日期:2012年12月04日招标编号:0834-1240SH12A2...(气相沉积炉在正文或附件中)
2012-12-4上海 -
反应离子式深硅刻蚀系统招标公告 项目名称:反应离子式深硅刻蚀系统日期:2012年12月04日招标编号:0834-1240SH12A2...(气相沉积炉在正文或附件中)
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反应离子刻蚀机(用于介质薄膜) 招标公告 项目名称:反应离子刻蚀机(用于介质薄膜)日期:2012年12月04日招标编号:0834-1240SH...(气相沉积炉在正文或附件中)
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多靶磁控溅射镀膜系统招标公告 项目名称:多靶磁控溅射镀膜系统日期:2012年12月04日招标编号:0834-1240SH12A21...(气相沉积炉在正文或附件中)
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原子力显微镜招标公告 项目名称:原子力显微镜日期:2012年12月04日招标编号:0834-1240SH12A215/01...(气相沉积炉在正文或附件中)
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卧式低压化学气相沉积炉管检控系统招标公告 项目名称:卧式低压化学气相沉积炉管检控系统日期:2012年12月04日招标编号:0834-1240S...(气相沉积炉在正文或附件中)
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等离子增强化学气相沉积系统招标公告 项目名称:等离子增强化学气相沉积系统日期:2012年12月04日招标编号:0834-1240SH12...(气相沉积炉在正文或附件中)
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卧式氧化扩散炉管系统招标公告 项目名称:卧式氧化扩散炉管系统日期:2012年12月04日招标编号:0834-1240SH12A21...(气相沉积炉在正文或附件中)
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电子束蒸发镀膜系统招标公告 项目名称:电子束蒸发镀膜系统日期:2012年12月04日招标编号:0834-1240SH12A215...(气相沉积炉在正文或附件中)
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反应离子刻蚀机(用于介质薄膜)招标公告 项目名称:反应离子刻蚀机(用于介质薄膜)日期:2012年12月04日招标编号:0834-1240SH...(气相沉积炉在正文或附件中)
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