北京物理气相沉积招标预告

用于12吋三维异质异构集成混合键合技术研发开展晶圆表面无机释放层、金属种子层和阻挡层的溅射支撑后续高...(物理气相沉积在正文或附件中)

在超高真空条件下利用高速运动的氩离子轰击靶材形成靶材成分的等离子体并沉积到靶材上方的衬底上并进行原位...(物理气相沉积在正文或附件中)

设备主要用于氧化钒和氧化物半导体的磁控溅射镀膜用于制备非制冷红外传感器、热耦合晶体管、铁电场效应晶体...(物理气相沉积在正文或附件中)

磁控溅射是物理气相沉积的一种能稳定、可靠、低成本的制备ITO、TiN材料可支撑器件芯片研制和工艺研发...(物理气相沉积在正文或附件中)

采购需求概况应当包括：1.采购标的名称：多腔室溅射系统(物理气相沉积在正文或附件中)

磁控溅射是物理气相沉积的一种。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程和靶原子碰撞把部分动量传给靶原子此靶原...(物理气相沉积在正文或附件中)

热蒸发制程是用于沉积材料中最简单的物理气相沉积(物理气相沉积在正文或附件中)

拟采购大晶圆高真空物理气相沉积系统采用低温泵+干泵组合最低真空度5x10-8(物理气相沉积在正文或附件中)

1)主真空室：≥1000mm×500mm×500mm极限真空度：8.0×10-3Pa；2)真空室压升...(物理气相沉积在正文或附件中)

电子束蒸镀是在高真空环境中采用蒸发的物理方法将靶材气化成气态分子、原子或离子从而在衬底表面沉积具有某...(物理气相沉积在正文或附件中)

过程腔室体积为58L真空抽速260l/s极限真空2E-6torr；2英寸标准磁场靶枪500W直流电源...(物理气相沉积在正文或附件中)

拟采购多靶磁控溅射薄膜沉积系统1套可以完成突破三中纳米器件制备和阵列式系统集成低维压电材料体系的可控...(物理气相沉积在正文或附件中)

真空度优于10-6Pa；沉积8英寸晶圆均匀性优于±3%；批次间重复率优于±3%；配备射频电源专用于不...(物理气相沉积在正文或附件中)

热蒸发镀膜是通过热阻蒸发方式将材料加热蒸发后在基片上沉积成膜的一种物理气相沉积工艺将主要用于低维量子...(物理气相沉积在正文或附件中)

1.名称：磁控溅射台2.功能：用于实现半导体MEMS制造流程中金属材质薄膜物理气相沉积工艺一台用于T...(物理气相沉积在正文或附件中)

高真空多靶溅镀系统是集成电子束蒸发的物理气相沉积系统该系统适用于多种材料体系薄膜的制备如实验室中用于...(物理气相沉积在正文或附件中)

电子束蒸发仪是集成电子束蒸发的物理气相沉积系统该系统适用于多种材料体系薄膜的制备如实验室中用于在衬底...(物理气相沉积在正文或附件中)