拟采购1台激光直写光刻机实现不小于8寸基板的无掩膜光刻实现版图灵活设计的图形化加工工艺具有套刻功能。(光刻机在正文或附件中)

拟采购全自动紫外光刻机1台套（含匀胶显影）8寸向下兼容用于实现对衬底晶圆的曝光图形化全自动实现机械手...(光刻机在正文或附件中)

拟采购全自动紫外光刻机1台套（含匀胶显影）8寸向下兼容用于实现对衬底晶圆的曝光图形化全自动实现机械手...(光刻机在正文或附件中)

拟采购1台激光直写光刻机实现不小于8寸基板的无掩膜光刻实现版图灵活设计的图形化加工工艺具有套刻功能。(光刻机在正文或附件中)

采购设备名称：纤维半导体器件微纳加工系统1套该设备是对纤维材料和器件表面进行微纳加工。针对纤维器件定...(光刻机在正文或附件中)

激光直写是芯片制造流程必不可少的设备之一。由于科学研究自由度高常规紫外光刻机需要定制光刻板不能满足科...(光刻机在正文或附件中)

采购内容包括：工业互联网综合实验平台基于深度视觉抓取移动作业开源机器人（高级版）开源六自由度协作机器...(光刻机在正文或附件中)

（1）拟采购方式：上大迅采(光刻机在正文或附件中)

EUVL流体光源实验系统 1 台实现极紫外光刻机中流体光源的极低压环境以及缓冲气体高速射流环境。最低...(光刻机在正文或附件中)

主要设备:光刻机(1套)薄膜生长设备【包括氧化炉(1套)、PVD设备(1套)、原子层沉积设备(1套)...(光刻机在正文或附件中)

包括：1.气温控制系统(光刻机在正文或附件中)

拟采购电子束光刻机。(光刻机在正文或附件中)

共计大学拟申请购置一套电子束曝光机。(光刻机在正文或附件中)

拟申请购置电子束曝光机设备人民币价格为1720万元。(光刻机在正文或附件中)

为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2...(光刻机在正文或附件中)

上海科技大学“非平庸拓扑电子结构探索及在量子计算中的应用”（市级重大专项）申请采购电子束光刻机将用...(光刻机在正文或附件中)

为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔20...(光刻机在正文或附件中)

需购置电子束曝光机(光刻机在正文或附件中)

　　教育部申请复旦大学电子束光刻机测试服务 采购项目采用单一来源方式采购，项目预算金额 10...(光刻机在正文或附件中)

（1）拟采购方式：上大迅采(光刻机在正文或附件中)

晶圆级电子显微扫描成像分析。设备性能稳定可提供高性能扫描电镜成像和全自动、可重复的过程控制能力。晶圆...(光刻机在正文或附件中)

（1）拟采购方式：上大迅采(光刻机在正文或附件中)

电子束光刻机提供因设备自身质量问题导致设备故障的技术服务包括部件更换以及相关的人工服务。服务目标为满...(光刻机在正文或附件中)

电子束光刻机应适用于高分辨率电子束光刻工艺并可对纳米结构进行精确的成像度量。？电子束光刻机系统由真空...(光刻机在正文或附件中)

计划采购无掩膜光刻机一套要求具备双光路设计配有405nm和365nm双光路书写光源须自动切换满足对正...(光刻机在正文或附件中)

拟采购接触式光刻机一套紫外光波长：350nm～450nm光强均匀性：2%(光刻机在正文或附件中)

为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔202...(光刻机在正文或附件中)

分辨率小于1微米正面套刻精度达到0.5微米背面套刻精度小于1.5微米(光刻机在正文或附件中)

最小线宽小于10纳米套刻精度小于30nm大面积拼接精度小于30nm支持曲面衬底曝光支持8英寸晶圆支持...(光刻机在正文或附件中)

采购壹台台式无掩膜直写光刻机主要可通过以软件设计电子掩膜版的方法利用电脑控制一系列激光脉冲的开关可在...(光刻机在正文或附件中)