上海薄膜沉积招标预告

（1）拟采购方式：上大迅采(薄膜沉积在正文或附件中)

采购设备名称：纤维半导体器件微纳加工系统1套该设备是对纤维材料和器件表面进行微纳加工。针对纤维器件定...(薄膜沉积在正文或附件中)

物理气相沉积设备是一种用于将材料薄膜沉积到基底上的系统其工艺包括将固体材料转化为蒸汽将蒸汽输送到低压...(薄膜沉积在正文或附件中)

（1）拟采购方式：上大迅采(薄膜沉积在正文或附件中)

采购GDP薄膜沉积系统1台具体要求详见采购文件。供货期：合同签订之日起6个月内货到采购人指定地点并安...(薄膜沉积在正文或附件中)

多靶磁控溅射设备一台实现对金属/氧化物纳米级厚度薄膜的加工制造。采购标的需要满足：腔室内的极限压强可...(薄膜沉积在正文或附件中)

名称：异型腔内壁蒸镀磁控溅射靶系统 溅射系统是高能脉冲磁控溅射系统的关键部件其主要包括脉冲电源、RF...(薄膜沉积在正文或附件中)

等离子增强型化学气相沉积成膜仪1台能提供从数十纳米至数微米的稳定氧化物或氮化物成膜能力并且可以对衬底...(薄膜沉积在正文或附件中)

能够实现8英寸基底的薄膜沉积能制备厚度差异在±5%（8英寸）的硫系化合物、氧化物等材料的薄膜沉积。配...(薄膜沉积在正文或附件中)

原子层沉积系统是一种用于实现精确控制薄膜材料沉积的高精度设备。其主要目的是通过原子层沉积技术实现单原...(薄膜沉积在正文或附件中)

为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2...(薄膜沉积在正文或附件中)

（1）配有预真空室Load-lock传送腔通过闸板阀与反应腔室连接；反应腔室极限真空：≤2Pa 、预...(薄膜沉积在正文或附件中)

采购名称：电子束蒸镀系统；数量：1套；采购设备主要功能与目标：本次申请购买的电子束蒸发镀膜系统将主要...(薄膜沉积在正文或附件中)

政府采购意向公告 为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工...(薄膜沉积在正文或附件中)

拟购置设备主要用于光学薄膜制备在光刻设备光学元件制备中具有广泛的应用。设备将拓展学校在193nm和2...(薄膜沉积在正文或附件中)

用于MEMS传感器、驱动器、显示、微流控、RF开关等领域的抗粘、疏水或亲水、润滑、疏油或亲油、抗蚀、...(薄膜沉积在正文或附件中)

实现SiO2、SiON、SiN及TEOS等绝缘介质薄膜沉积氧化硅可实现磷及氟掺杂配置半自动Loadl...(薄膜沉积在正文或附件中)

专用用于GaAs、InP及GaN等化合物半导体基片的氧化硅、氮化硅及氮氧化硅等介质薄膜沉积基片可加热...(薄膜沉积在正文或附件中)

磁控溅射镀膜系统是微纳加工应用中的关键薄膜沉积工艺设备磁控溅射主要应用在微电子、光学膜和材料表面处理...(薄膜沉积在正文或附件中)

为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔202...(薄膜沉积在正文或附件中)

高精度光学薄膜沉积设备采购电子束蒸发或离子束辅助制备近紫外至红外波段各类介质光学薄膜蒸镀各种金属薄膜...(薄膜沉积在正文或附件中)

物理气相沉积镀膜系统是集成电路工艺中的关键薄膜沉积工艺的重要设备可用于各种金属材料金属合金以及金属氧...(薄膜沉积在正文或附件中)

超高真空EUV薄膜沉积装置1台套用于高性能EUV薄膜的研制。(薄膜沉积在正文或附件中)

本项目拟采购HDPSTI沉积设备1套用以进行浅沟槽隔离绝缘技术(STI)薄膜沉积(薄膜沉积在正文或附件中)

。本项目采购的增材镀膜系统是多功能的物理气相沉积镀膜工具它主要应用于增材的共溅射、正溅射和离轴薄膜沉...(薄膜沉积在正文或附件中)

原子层沉积(Atomic(薄膜沉积在正文或附件中)

激光脉冲沉积系统具有设备简单、薄膜沉积速率高试验周期短衬底温度要求低制备的薄膜均匀；工艺参数任意调节...(薄膜沉积在正文或附件中)