北京原子层沉积招标预告

采购需求概况应当包括：1.采购标的名称：原子层沉积设备(原子层沉积在正文或附件中)

采购等离子体超高真空高温原子层沉积设备1台用于实现超薄二维原子晶体材料大尺寸、大晶粒、原子层可控制备...(原子层沉积在正文或附件中)

设备应由ALD粉末反应系统、前驱体源系统软件控制系统等部分组成(原子层沉积在正文或附件中)

1、采购标的名称:(原子层沉积在正文或附件中)

本设备是通过控制沉积周期的次数进而实现薄膜厚度的精确控制支撑器件芯片研制和工艺研发。(原子层沉积在正文或附件中)

建设先进的铁电材料物性研究平台需采购关键设备包括高真空度磁控溅射系统、原子层沉积系统（ALD）、铁电...(原子层沉积在正文或附件中)

原子层沉积系统在厚度、成分、结构等沉积参数方面高度可控可用于12英寸基片的图形侧壁沉积工艺(原子层沉积在正文或附件中)

(原子层沉积在正文或附件中)

(原子层沉积在正文或附件中)

原子层沉积系统最大支持8寸配备不大于6个源带清洗程序(原子层沉积在正文或附件中)

采购标的名称：原子层沉积系统(原子层沉积在正文或附件中)

(原子层沉积在正文或附件中)

(原子层沉积在正文或附件中)

采用热原子层沉积（T-ALD）方法或者等离子体增强原子层沉积（PEALD）方法制备高度致密的、无针孔...(原子层沉积在正文或附件中)

拟建设电子工业洁净实验室主要研究方向为：原子级材料生长、原子层沉积与刻蚀、原子级制造的测量和表征、原...(原子层沉积在正文或附件中)

采购需求概况应当包括：1.采购标的名称：原子层沉积(原子层沉积在正文或附件中)

原子层沉积设备以单原子膜形式逐层镀在基底表面与普通的化学沉积有相似之处但在原子层沉积过程中新一层原子...(原子层沉积在正文或附件中)

衬底尺寸和类型:6英寸/单片3D(原子层沉积在正文或附件中)

专门应用于科学研究领域的单原子层沉积系统在90℃低温条件下生长高质量氧化铪生长薄膜均匀性高缺陷数量少...(原子层沉积在正文或附件中)

循环周期小于2秒、适用于通孔和多孔的基底材料、可快速加热和冷却的冷壁真空反应腔(原子层沉积在正文或附件中)

专门应用于科学研究领域的单原子层沉积系统在90℃低温条件下生长高质量氧化铪生长薄膜均匀性高缺陷数量少...(原子层沉积在正文或附件中)

原子层沉积系统（ALD）可用于生长介质层材料该系统通过将气相前驱体脉冲交替地通入ALD反应腔分别化学...(原子层沉积在正文或附件中)

200mm样品处理能力；免水氧条件进样；多进料管线和端口协同工作；精确沉积特定元素比例和厚度的合金涂...(原子层沉积在正文或附件中)

碳基栅叠层项目是为推动碳基芯片的发展而设立针对碳纳米管衬底的半导体器件由于碳纳米管直径在几个纳米的范...(原子层沉积在正文或附件中)

温度范围：100~500℃控温精确度±1℃内腔材质：Ti合金金属沾污：<5e10/cm2；本底...(原子层沉积在正文或附件中)

该设备用于制备原子层厚度介质薄膜重点满足高端产业人才课程实训平台建设需求同时提升集成电路（IC）和微...(原子层沉积在正文或附件中)

Al2Ox厚度可达到<1nm、可以室温运行、兼容Plasma(原子层沉积在正文或附件中)

1、兼容12寸及以下晶圆的薄膜沉积；2、具备2个工艺腔体分别用于沉积介质薄膜和金属薄膜(TiN薄膜的...(原子层沉积在正文或附件中)

用于原子层沉积技术生产粉末催化剂(原子层沉积在正文或附件中)

三氧化二铝、氧化铪、氮化钛、铪哠氧、铪镧氧等薄膜沉积；厚度均匀性小于3%；兼容8英寸；防止交叉污染分...(原子层沉积在正文或附件中)