采购项目名称 参考规格型号 采购数量 备注 ...(射频电源在正文或附件中)

薄膜沉积设备（PECVD）是一种化学气相沉积设备采用等离子体处理的方式将反应性气体激活经过化学反应沉...(射频电源在正文或附件中)

设备主要用于氧化钒和氧化物半导体的磁控溅射镀膜用于制备非制冷红外传感器、热耦合晶体管、铁电场效应晶体...(射频电源在正文或附件中)

拟采购磁控溅射仪四套靶直流与射频电源各两个。(射频电源在正文或附件中)

等离子表面处理：射频电源0~1000W(射频电源在正文或附件中)

1.(射频电源在正文或附件中)

喷发物分析仪挥发分模块鉴定件一套应包括一个低压电源、一个高压电源、一个射频电源、一个主控单元和一套F...(射频电源在正文或附件中)

拟采购用于多元复杂薄膜沉积模块的关键设备零部件一批设备零部件包含真空泵组定制真空腔体真空密封件真空计...(射频电源在正文或附件中)

采用离子质荷比分析代替荧光系统检测信号从本质上避免了“荧光串色”与“自发荧光”的影响从而获得更准确的...(射频电源在正文或附件中)

采购项目名称 参考规格型号 采购数量 备注 射频电源 40MHz1-...(射频电源在正文或附件中)

本次采购的一台等离子干法刻蚀设备是电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备其原理是将射频电源的能量经由电感...(射频电源在正文或附件中)

本次采购的一台干法刻蚀设备为电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备是一种将射频电源的能量经由电感线圈以磁...(射频电源在正文或附件中)

薄膜刻蚀设备原理是将射频电源的能量经由电感线圈以磁场耦合的形式进入反应腔内部从而产生等离子体并用于刻...(射频电源在正文或附件中)

用途介绍：用于Au、Cr等金属以及介质材料的镀膜。性能要求：1、具有DC直流溅射能力、RF射频溅射能...(射频电源在正文或附件中)

拟采购介电材料离子源辅助磁控溅射镀膜机1台技术参数需求：真空系统：无油真空系统抽气和放气带缓抽缓放功...(射频电源在正文或附件中)

拟采购等离子体增强化学气相沉积PECVD1台技术参数需求：等离子源：配有RF射频电源功率不小于300...(射频电源在正文或附件中)

拟采购磁控溅射系统1台技术参数要求：三路气体（ArN2O2）1个直流电源、1个射频电源、4个溅射靶材...(射频电源在正文或附件中)

真空度优于10-6Pa；沉积8英寸晶圆均匀性优于±3%；批次间重复率优于±3%；配备射频电源专用于不...(射频电源在正文或附件中)

1.采购标的名称：大型磁控溅射仪；2.采购标的要求：磁控溅射系统是目前制备超导超薄薄膜的主流方式研制...(射频电源在正文或附件中)

标的名称：精密电感耦合等离子刻蚀系统主要功能：用于刻蚀Al2O2、TiN、SiO2、SiNx、IGZ...(射频电源在正文或附件中)

双室高真空磁控溅射薄膜沉积设备项目所在采购意向：中国科学院电工研究所2022年2至12月政府采购意向...(射频电源在正文或附件中)

反应腔室1套真空获得系统1套下电极1套；射频电源及匹配器1套频率13.56MHz选配400kHz低频...(射频电源在正文或附件中)

碗状工件镀膜设备；数量：1套；主要功能：实现对碗状工件的磁控溅射镀膜和电子束蒸发镀膜其中磁控溅射镀膜...(射频电源在正文或附件中)

艇载台风探测雷达射频分机、数字分机、电源分机等1套总体指标要求：重量：≤13kg（含机箱）；功耗：≤...(射频电源在正文或附件中)